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精密陶瓷在半導體中的應用

文章出處:http://www.lakk.cn/gongsidongtai/1128.html人氣:13時間:2024-10-14

在半導體產業中,半導體制造設備是我國卡脖子的問題,也是重點鼓勵發展的產業。近幾年,隨著國家政策的調整,半導體行業迅速發展,產業規模急速增大,半導體制造設備持續向精密化、復雜化演變,高精密陶瓷關鍵部件的技術要求也越來越高。

精密陶瓷在半導體中的應用

半導體設備需要大量的精密陶瓷部件。由于陶瓷具有高硬度、高彈性模量、高耐磨、高絕緣、耐腐蝕、低膨脹等優點,可用作硅片拋光機、外延/氧化/擴散等熱處理設備、光刻機、沉積設備,半導體刻蝕設備,離子注入機等設備的零部件。半導體陶瓷有氧化鋁、氮化硅、氮化鋁、碳化硅等,在半導體設備中,精密陶瓷的價值約占16%左右。

1、氧化鋁(Al2O3)

氧化鋁在半導體裝備中使用最為廣泛的精密陶瓷材料。具有材料結構穩定,機械強度高,硬度高,熔點高,抗腐蝕,化學穩定性優良,電阻率大,電絕緣性能好等優點,在半導體設備中應用廣泛。

在半導體刻蝕設備中,刻蝕機腔室材料作為晶圓污染的主要來源,等離子刻蝕對其影響程度決定了晶圓的良率、質量、刻蝕工藝的穩定性等等。因此,刻蝕機腔室材料的選用尤為重要。當前,主要采用高純Al?O?涂層或Al?O?陶瓷作為刻蝕腔體和腔體內部件的防護材料。除了腔體以外,等離子體設備的氣體噴嘴,氣體分配盤和固定晶圓的固定環等也需用到氧化鋁陶瓷。

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在晶圓硅晶片的搬運中,會應用到氧化鋁陶瓷制成的陶瓷機械手臂。氧化鋁陶瓷和碳化硅陶瓷都具備致密質、高硬度、高耐磨性的物理性質,以及良好的耐熱性能、優良的機械強度,高溫環境仍具有良好的絕緣性、良好的抗腐蝕性等物理性能,是用于制作半導體設備機械手臂的絕佳材料。從材料性質來看,碳化硅陶瓷用于制作陶瓷機械手臂較為合適,但是從材料價格、加工難度等經濟方面來說,氧化鋁陶瓷機械手臂的性價比更高。此外,在晶圓拋光工藝中,氧化鋁陶瓷可被廣泛應用于拋光板、拋光磨墊校正平臺、真空吸盤等。

2、碳化硅(SiC)

碳化硅具有高導熱性、高溫機械強度、高剛度、低熱膨脹系數、良好的熱均勻性、耐腐蝕性、耐磨耗性等特性。碳化硅在高達1400℃的極端溫度下,其仍能保持良好的強度。采用碳化硅陶瓷的研磨盤由于硬度高而磨損小,且熱膨脹系數與硅晶片基本相同,因而可以高速研磨拋光。
在硅晶片生產時,需要經過高溫熱處理,常使用碳化硅夾具運輸,其耐熱、無損,可在表面涂敷類金剛石(DLC)等涂層,可增強性能,緩解晶片損壞,同時防止污染擴散。此外,碳化硅陶瓷還可應用在XY平臺、基座、聚焦環、拋光板、晶圓夾盤、真空吸盤、搬運臂、爐管、晶舟、懸臂槳等。

3、氮化鋁(AlN)

高純氮化鋁陶瓷具有卓越的熱傳導性,耐熱性、絕緣性,熱膨脹系數接近硅,且具有優異的等離子體抗性,產品熱量分布均勻??蓱糜诰訜岬募訜崞?、靜電夾盤等。

4、氮化硅(Si3N4)

氮化硅(Si3N4)是斷裂韌性高、耐熱沖擊性強、高耐磨耗性、高機械強度、耐腐蝕的材料??蓱糜诎雽w設備的平臺、軸承等部件。

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